脱气膜系统
Liqui-Cel接触器已成为微电子和平板工业中的脱气标准,因为它们清洁,具有非常低的可萃取物并且不会对水质产生负面影响。由于Liqui-Cel接触器体积小,结构紧凑,可轻松去除溶解氧,降至1ppb,溶解二氧化碳降至1ppm,因此非常适合使用。
脱气膜广泛应用于水和其他液体的除氧工艺中。这是由于氧气对许多产品工艺的过程会产生负面的影响,例如氧气会腐蚀、氧化材料,造成设备的损害。
在电力和其他工业领域,如果不进行脱气,管道、锅炉和设备很容易被腐蚀。脱气膜无需添加化学品,易于大型脱气塔操作,可模块化地达到水中脱氧的效果,还能节省工艺流程,只需单个步骤即可达到同时去除氧气、二氧化碳和控制氮气的效果。
在半导体领域中,主要应用于半导体和薄膜平板工业领域,这是因为高含氧量会导致低良品率,使用脱气膜可提升产品的生产质量,提高产品的生产效率。
在微电子领域中,脱气膜能满足<1ppb 的溶解氧指标,并提供性能担保。
脱气膜是控制液体脱气、供气的中空纤维膜组件。具有致密表皮层的独特中空纤维不透过液体,只透过气体,适合用于液体的脱气、供气。
在半导体工业中去除溶解氧和CO2以延长离子交换的工作时间和改善EDI的性能。在MAKE-UP系统中除去溶解氧,在抛光阶段去除溶解氧使之达到小于1ppb。总气体控制有助于加强超声清洗效果。
脱气膜广泛地用于从水中除氧和其他液体除氧。氧气O2对很多工艺过程有负面影响;氧气会腐蚀和氧化材料。在电力和其他工业领域,如果没有进行脱气, 管道,锅炉和设备很容易被腐蚀。脱气膜提供了一种无需化学品添加和大型脱气塔的易于操作,模块化的水中脱氧方法。还提供只须一个步骤就可达到同时去除氧气O2和二氧化碳CO2 , 和氮气控制的好处。在半导体领域的灵活应用在半导体和薄膜平板工业领域,高含氧量会导致低良品率。在微电子领域,脱气膜能满足<1ppb。
3M脱气膜Liqui-Cel
3M Liqui-Cel 脱气膜采用紧凑型设计,可提供高效的溶解气体控制。这些气体传输装置能够向相容的液体流中添加气体或从相容的液体流中去除溶解的气体和气泡,它们利用中空纤维膜技术,可以帮助世界各地的设施提高运行效率,性能并保护产品质量。
20多年来,他们已经在世界各地取代了真空塔,强制通风除氧器和氧气清除剂。3M通过协同工作为您的项目提供深入的技术支持和服务,以确保解决方案满足要求和期望。
Liqui-Cel 膜接触器用于有效去除液体中的气体或向液体中添加气体。这些膜装置已经取代了老式技术,如真空塔,强制通风除氧器和氧气清除剂,已有20多年的历史。典型应用是从水中去除O2和从水中去除CO2; 然而,膜接触器非常能够控制几种类型的溶解气体。例如,添加或去除氮气碳化,气体加湿,VOC去除和控制气体以改善超声波是一些其他应用。