半导体芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷却用水，基板晶圆片检测清洗用水，中段晶圆片溅镀、曝光、电镀、光刻、腐蚀等工艺清洗，后段检测封装清洗。
太阳能光伏产业主要生产集中在多晶硅提纯、拉单晶、多晶硅铸锭、太阳能电池片等，这些生产工艺中主要动力需求包括：超纯水，电源，特气。
光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水。
液晶面板生产大约50%以上工序中硅片与超纯水直接接触，有80%以上工序需要进行化学处理，而化学处理又与超纯水有密切关系，并且直接与工件接触，如果水质不纯，就会导致器件性能下降，影响产品性能，进而影响了产品的良率。
作为电解液的重要成分，水在电池中起着至关重要的作用，一般情况下的水中含有钙镁离子，固体颗粒、胶状物质等导电物质，会缩短蓄电池的使用寿命，也不符合国家有关电池用水的标准规范，所以需要水质高的超纯水作为电池电解液。
光伏太阳能、动力电池生产对超纯水用量极大，因此系统具有产水量大、出水质量高、系统稳定，水质要求≥17MΩ*cm（25℃）
电子半导体生产用超纯水对TOC、DO、SIO2、Particulate的控制极其严格，达到PPb级，产水水质要求在18.2MΩ*cm（25℃）以上。
液晶面板生产大约百分之五十以上工序中硅片与超纯水有直接接触，有八分之八十以上工序需要进行化学处理，水质不纯将直接影响产品部件性能。
手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求极高，带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。
磷酸铁锂、碳酸锂、石墨烯等新材料的生产，需要以超纯水作为混合溶液，终端水质要求在≥15MΩ*cm（25℃）以上
化工是当今化学工业的新型领域，涉及领域广泛，化工产品包括了大致11个品类：农药、染料、涂料、颜料、试剂盒高纯物，信息用化学品、食品和饲料添加剂、粘合剂、催化剂和各种助剂、化工系统生产的化学药品(原料药)和日用化学品、高分子聚合物中(包括功能膜和偏光材料等)，随着经济发展，行业的开发和涉及领域也会不断
新能源产业主要是源于新能源的发现和应用新能源指刚开始开发利用或正在积极研究、
电镀涂装行业中，为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力，电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm以下的纯水;另外在镀件漂洗时也需用电导率在10uS/cm以下电镀纯水来清洗。
食品工业纯水设备是针对于现行食品工业企业纯水需求与食品QS认证、纯净水卫生标准2003标准设计的，此纯水设备采用全不锈钢材质，后置纯水杀菌模块，操作简便，工艺先进，水质稳定，可用于生产加工过程中添加用水。
工业废水（industrial wastewater），指工艺生产过程中排出的废水和废液，其中含有随水流失的工业生产用料、中间产物、副产品以及生产过程中产生的污染物，是造成环境污染，特别是水污染的重要原因。
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